商丘金常來金屬制品有限公司
經(jīng)營模式:生產(chǎn)加工
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在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離,利用電場的加速作用,使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。
PVD真空鍍層按照膜層應用來分類可分為裝飾膜層和硬質(zhì)膜層:
裝飾膜層可以改善工件外觀裝飾性能和色澤同時使工件更耐磨耐腐蝕;硬質(zhì)膜層用于提高工件的表面硬度和耐磨性,降低表面的摩擦系數(shù),提高工件的使用壽命。
離子鍍
在真空條件下,利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離,并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下,將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法。可將離子發(fā)生源與工作室分離,克服了濺射鍍膜為了持續(xù)放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷,高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著力和質(zhì)量,是一種結(jié)合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢的PVD技術(shù)。
根據(jù)離化方式的不同,常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。
鍍層附著性能好
普通真空鍍膜時,在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層,好似截然分開。而離子鍍時,離子高速轟擊工件時,能夠穿透工件表面,形成一種注入基體很深的擴散層,離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米,對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明,一直拉到快要斷裂時,鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸,無起皮或剝落現(xiàn)象發(fā)生,可見附著多么牢固,膜層均勻,致密。
高經(jīng)理先生
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